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常用工作介質遠紅外激光器25~1000μm自由電子激光器中紅外激光器2.5~25μmCO分子氣體激光器(5~6μm)近紅外激光器750nm~2500nm摻釹固體激光器(2064nm)、砷化鈣(CaAs)半導體激光器(800nm)可見光激光器400nm~700nm氦氖(632.8nm)、氬離子(488nm)、紅寶石(694.3nm)、等近紫外激光器200nm~400nm氟化氙(XeF)、氟化氪(Krf)、氮(N)分子激光器真空紫外激光器50nm~200nm氙(Xe)、氫(H)分子激光器X射線激光器0.01~50nm目前多處于探索階段除了激勵源和激光工作介質之外還需要能使激發光放大的光學諧振腔，如 ...
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