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以取代而展開光刻成像，借助DMD對(duì)光源展開反射式調(diào)制，把涉及的虛擬數(shù)字掩膜移至硅晶圓基片，進(jìn)而進(jìn)行曝光。DMD無掩模光刻系統(tǒng)本質(zhì)上是一種高精度加工平臺(tái)，如下圖所示，主要包括投影光源部分、DMD光調(diào)制部分、投影物鏡和光可調(diào)平臺(tái)部分。圖2：法國(guó)Microlight3D公司DMD無掩模光刻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖3、DMD無掩模光刻相比傳統(tǒng)光刻有什么優(yōu)點(diǎn)？借助DMD無掩模光刻成像的效率是傳統(tǒng)光刻無法比擬的，其光刻成像過程完全受計(jì)算機(jī)控制，因而便于更改數(shù)字虛擬掩膜，并且DMD的成本較低，可以循環(huán)使用，極大的簡(jiǎn)化了傳統(tǒng)光刻的流程，也大大降低了光刻加工的成本。4、Smartprint UV無掩模光刻系統(tǒng)有什么優(yōu)勢(shì)？Sm ...
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