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中文：反應離子束刻蝕；英文：reactive ion etching

關鍵詞

解釋

射頻電源使反應室的混合氣體產生等離子體，離子被加速并與待刻蝕的表面材料相互作用，發生物理和化學反應，高能離子轟擊待刻蝕材料、使原子溢出、實現刻蝕的工藝過程。

相關詞條

中文：刻蝕；英文：etching

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