上，然后通過刻蝕的方法將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上來制作電子電路的技術(shù)。其中光刻系統(tǒng)被稱為光刻機(jī)，帶有圖形的石英板稱為掩膜，光敏記錄材料被稱為光刻膠或抗蝕劑。具體光刻流程如下圖所示 光刻技術(shù)是集成電路制造、印刷電路板制造以及微機(jī)電元件制造等微納加工領(lǐng)域的核心技術(shù)之一。進(jìn)入21世紀(jì)以來,隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展,集成電路的需求出現(xiàn)了井噴式的增長。使的對掩膜的需求急劇增加，目前制作掩膜的主要技術(shù)是電子束直寫，但該制作效率非常低下，并且成本也不容小覷，在這種背景下人們把目光轉(zhuǎn)移到了無掩膜光刻技術(shù)。 備受關(guān)注的無掩膜光刻技術(shù)大概可以分為兩類：1）帶電粒子無掩膜光刻；例如電子束直寫和離子束光刻技術(shù) ...

、超薄材料上刻蝕出小于200nm寬度的納米線，這樣超薄、超窄的納米線，可以保證快速的熱弛豫過程。對于光子到脈沖的轉(zhuǎn)換過程我們看下面這幅圖，展示了光子打在超導(dǎo)材料上，產(chǎn)生熱點變?yōu)橛凶钁B(tài)，再轉(zhuǎn)變到超導(dǎo)態(tài)的整個過程。在超導(dǎo)態(tài)下，納米芯片的兩端沒有產(chǎn)生電壓差或者說電壓差很小，這時候，打入一個光子，在材料上產(chǎn)生熱點，隨著能量的釋放，原本沒有電壓差的兩端，這時候產(chǎn)生了電壓差，并且電壓差持續(xù)增大，直到這個熱點的能量逐漸降低，也就是說的熱弛豫過程，完成這一過程后，超導(dǎo)態(tài)逐漸恢復(fù)，兩端的電壓逐漸減小，如果將脈沖放大，我們得到下圖的脈沖信號。從上面的原理簡述中，我們暫時還看不到探測效率如何。對于探測效率更共識的一 ...

這可能是由于刻蝕和遷移過程所引起的。對于一個低于2V的注入偏壓來說，拉曼光譜與原始光譜相似。然而當(dāng)外加電壓高于3V時，G峰和D峰都有明顯的增加并且在偏壓增加到3V時G峰從1580cm-1偏移到1603cm-1。G峰強(qiáng)度的增加對于通過注入的摻雜效應(yīng)是一個顯示，同時G峰上移23cm-1 表明了成功注入。D峰強(qiáng)度的增加表明注入過程中在石墨烯層缺陷的增加，這增強(qiáng)了注入的過程。對于高于4V的偏壓，隨著2D峰的減弱出現(xiàn)了很強(qiáng)的熒光背景，這進(jìn)一步表明了注入過程中強(qiáng)有力摻雜效應(yīng)。再去除外加電壓之后，石墨烯表面出現(xiàn)了和原始樣品相似的拉曼光譜。圖1. 離子液體注入多層石墨烯器件的原位拉曼測試：（a）原位拉曼測試過 ...

功率飛秒激光刻蝕工藝實現(xiàn)了簡單且環(huán)保的 MoS2 QDs 制造。圖1 MoS2的光譜表征（a）MoS2量子點（紅色）、1T相塊狀MoS2(藍(lán)色)、2H相塊狀MoS2（紅色）的拉曼光譜（b）典型的MoS2納米片和上述方法制備的MoS2量子點的紫外-可見光譜（c）上述方法制備的MoS2量子點溶液分別在300nm,320nm,340nm和360nm激發(fā)光下的PL光譜上圖a 顯示了 1T 和 2H MoS2 的典型拉曼振動，這表明通過 n-BuLi 處理和激光燒蝕步驟成功實現(xiàn)了相變。可以看出，1T 相 MoS2 有三種拉曼振動，分別對應(yīng)J1、J2 和 J3 模式。由于成功相變到2H相，這些具有代表性的 ...

砂處理、化學(xué)刻蝕、等離子噴涂和激光加工等。這些加工方式都是通過改變鈦合金表面，獲得多維度紋理，凹坑、溝槽、深孔等幾種形貌組合。結(jié)語：作為人體骨組織的有效替代品，鈦的這些優(yōu)點已經(jīng)被認(rèn)可并被廣泛應(yīng)用。而鈦合金表面處理卻往往被人們忽視，通過對鈦合金的表面進(jìn)行處理，改變鈦合金的表面形貌、微結(jié)構(gòu)，可以提高鈦合金的生物相容性，讓人體組織更快速的附著在鈦合金表面生長，從而幫助病人恢復(fù)健康。了解更多詳情，請訪問上海昊量光電的官方網(wǎng)頁：http://www.arouy.cn/three-level-37.html更多詳情請聯(lián)系昊量光電/歡迎直接聯(lián)系昊量光電關(guān)于昊量光電：上海昊量光電設(shè)備有限公司是光 ...

技術(shù)為氫氟酸刻蝕、噴砂、硅烷偶聯(lián)化等，一般認(rèn)為2.5%-10%的氫氟酸刻蝕玻璃陶瓷0.5-3 min，可獲得zui佳粘接強(qiáng)度，但氫氟酸對人體具有毒性和強(qiáng)腐蝕性，且當(dāng)已粘固的口內(nèi)陶瓷修復(fù)體斷裂需要重新粘接時，氫氟酸因其強(qiáng)腐蝕性無法用于口內(nèi)粘接前處理。Er:YAG激光是一種新出現(xiàn)的口腔治療激光，由于其高效、安全的切割能力，在牙科陶瓷材料表面處理方面有著巨大的應(yīng)用前景。1 Er:YAG激光作用于陶瓷材料表面處理的機(jī)制Er:YAG激光（鉺、釔、鋁、石榴石）是一種水動力生物激光系統(tǒng)，波長為2.94 um。相比其他激光，Er:YAG激光較為突出的特點為可對硬組織進(jìn)行作用，照射時可精確控制對深層組織的熱穿透 ...

保圖形的精確刻蝕至關(guān)重要。在光刻過程中，激光束需要精確地照射到硅片上的特定區(qū)域，以實現(xiàn)圖形的準(zhǔn)確轉(zhuǎn)移。如果激光指向不穩(wěn)定，會導(dǎo)致圖形位置偏移、尺寸變化等問題，嚴(yán)重影響產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。其次，激光指向的穩(wěn)定性還關(guān)系到光刻的重復(fù)性和一致性。在半導(dǎo)體制造中，往往需要對大量的硅片進(jìn)行光刻處理，這就要求光刻過程具有高度的可重復(fù)性和一致性。如果激光指向不穩(wěn)定，每次光刻的結(jié)果都會有所差異，導(dǎo)致產(chǎn)品批次間的性能不一致，增加了制造難度和成本。因此，激光指向的穩(wěn)定性在不斷提升的精度要求下顯得尤為重要。我們可以通過減小振動和降低溫度變化等方式實現(xiàn)光束的相對穩(wěn)定，但這只是一種被動的補(bǔ)償方式，而且無法徹底規(guī)避這些干擾。 ...

(ICP)中刻蝕20 μ m寬的多模波導(dǎo)。端面采用韌性切割制備。波導(dǎo)測量使用圖1 a)所示的設(shè)備進(jìn)行。使用量子級聯(lián)激光器(QCL) (Block Engineering Inc.)在1900-800 cm-1(波長5.3 - 12.9μm)范圍內(nèi)可調(diào)諧作為光源和兩個硒化鋅物鏡用于輸入和輸出耦合。在獲取透射光譜之前，將QCL設(shè)置為12.9μm，對準(zhǔn)后在紅外相機(jī)(Xenics-Gobi 640)上對波導(dǎo)輸出進(jìn)行成像，在TM偏振下的輸出強(qiáng)度分布如圖1b所示。模態(tài)強(qiáng)度分布(COMSOL)模擬顯示，沿x軸和y軸的FWHM分別為10.1μm和2.3μm。采用熱電冷卻型碲化汞鎘(MCT)探測器(VIGO系統(tǒng) ...

(ICP)中刻蝕20 μ m寬的多模波導(dǎo)。端面采用韌性切割制備。波導(dǎo)測量使用圖1 a)所示的設(shè)備進(jìn)行。使用量子級聯(lián)激光器(QCL) (Block Engineering Inc.)在1900-800 cm-1(波長5.3 - 12.9μm)范圍內(nèi)可調(diào)諧作為光源和兩個硒化鋅物鏡用于輸入和輸出耦合。在獲取透射光譜之前，將QCL設(shè)置為12.9μm，對準(zhǔn)后在紅外相機(jī)(Xenics-Gobi 640)上對波導(dǎo)輸出進(jìn)行成像，在TM偏振下的輸出強(qiáng)度分布如圖1b所示。模態(tài)強(qiáng)度分布(COMSOL)模擬顯示，沿x軸和y軸的FWHM分別為10.1μm和2.3μm。采用熱電冷卻型碲化汞鎘(MCT)探測器(VIGO系統(tǒng) ...

諧振腔通常是刻蝕在基材上的小結(jié)構(gòu)件，在使用泵浦激光驅(qū)動時可以生成光頻梳。雖然MRR的重復(fù)頻率可以達(dá)到很高的水平（圖1b），但是它們也有重復(fù)頻率波動和光頻不穩(wěn)定的問題，這限制了長時測距的精確度。西安光機(jī)所和華中科技大學(xué)的科研團(tuán)隊提出的解決方案時使用一個光纖光頻梳和一個MRR組成的DFC系統(tǒng)，如 圖2所示。在這個系統(tǒng)中，一路調(diào)制的二極管激光（ECDL）用于MRR的泵浦源。在探測用于檢測的樣品前MRR的輸出會經(jīng)過一個光纖放大器（EDFA）。光纖光頻梳不僅提供了穩(wěn)定的本振源來用于解調(diào)，同時十分重要的是提供了參考信號用于鎖定泵浦激光器。Moku:Lab的激光鎖頻/穩(wěn)頻器（圖2中標(biāo)記為“Servo”）用于 ...