面進行精細的刻蝕，這種技術利用了飛秒激光的超短脈沖特性，能夠在極短的時間內釋放巨大的能量，實現對材料的非熱性加工。飛秒激光技術自問世以來發展迅速，以其卓越的加工精度和速度，能夠在包括石英玻璃在內的多種材料表面進行微米乃至納米級別的精細加工。這種技術的應用范圍廣泛，從微電子到生物醫學領域，都能看到飛秒激光技術的身影。它不僅提高了加工效率，還極大地拓展了材料加工的可能性，為精密制造領域帶來了革命性的變化。結語：雖然玻璃有很多優點，但其脆性特性使得對它的精密加工難度很大。利用近年發展起來的激光加工技術，通過調整激光的波長、功率和脈沖寬度等工藝優化，可在玻璃材料加工領域不斷提高產品良率，并獲得穩定成熟 ...

IE/ICP刻蝕轉移到我們的混合SiN/LN平臺上。圖3中的布局還顯示了攜帶射頻信號的調制電極。圖3給出了馬赫-曾德爾（MZ）調制器的布局和加工切塊芯片的圖像2.2 低頻特性圖4(a)顯示了光通過兩個光柵耦合器（即光纖到光纖插入損耗）后的測量插入損耗與波長的關系。我們的光柵耦合器實現了小于-10dB的插入損耗。考慮到在不到一毫米長的波導中，輸入和輸出耦合器之間的傳播損耗可以忽略不計，每個耦合器的耦合損耗約為5dB。測量的耦合器3dB光纖到光纖帶寬為45nm。根據理論計算，每個耦合器預期損耗為-4dB。圖4. (a) 測量的光柵耦合器插入損耗（光通過兩個輸入和輸出耦合器后）。(b) 電極間隙為7 ...

工藝有光刻、刻蝕、電鍍和激光加工等。納制造則是在納米尺度上進行制造，一般包括納米電子器件、納米材料、納米藥物載體和納米傳感器等的制造過程。常用的納制造加工方法有納米印刷、原子層沉積和納米自組裝技術等，能夠控制材料實現原子和分子水平上的結構制備。微制造和納制造技術是現代制造技術的重要組成部分，兩種的重要性體現在其能夠實現更低的功耗、更高的集成度和更復雜的功能，可以極大促進技術創新和高端制造產業升級。圖2微納加工高精度產品示意圖三、微納加工的應用微納加工技術是一種精密制造技術，主要通過光刻、離子束刻蝕、金屬濺射沉積、化學/物理氣相沉積、電鍍、電化學腐蝕等工藝實現微米至納米級別的精細加工。該項技術涉 ...

和氬離子銑削刻蝕對寬度為5 μm、長度50 μm的霍爾交叉器件進行了圖像化處理。光學圖像如圖1d所示。圖3SOT的開關行為是通過在MgO/Pt/Co霍爾交叉器件上發送脈沖電流來實現的。電流I的脈沖寬度固定為5ms。電流振幅從+15掃至- 15 mA，然后再回到+15 mA。通過發送470 μA的小讀電流，測量每個脈沖電流后的霍爾電壓（Vxy）。脈沖電流的間隔約為2秒。測量過程如圖2a所示。Vxy切換曲線如圖2b所示，Hx從30到?30 Oe變化。在Hx = 0 Oe時觀察到一個幾乎完全的SOT開關回路。此外，當Hx =?10 ~?20 Oe時，該樣品幾乎沒有檢測到開關信號。這些結果表明，存在一 ...

后，通過化學刻蝕定義脊狀波導，并在激光波導側面重新生長絕緣Fe:InP。極化子C-V和霍爾測試已被用來確保Fe:InP是一個良好的電絕緣體。橫向再生的目的是雙重的：它允許激光模式的光學限制在橫向方向，并有助于優化散熱，通過改善在活躍區域產生的熱量的橫向傳輸，并通過平面化設備的頂面，從而允許向下安裝激光器。通過電子束蒸發沉積頂部和底部觸點金屬，隨后在頂部觸點上電解鍍一層厚金層，從而完成了器件的制造。這些器件被切成小塊，銦被焊接到銅支架上，以獲得非常佳的散熱效果。設備溫度由安裝在設備本身附近的溫度傳感器監測。圖2(A)顯示了安裝的器件和完整波導的面。圖2在分布式反饋（DFB）激光器的情況下，MOC ...

收縮和離子束刻蝕（IBE）過程中不可避免的外圍損傷。由于樣品中存在較高的IEC，因此在實驗中使用恒定的- 860 Oe外部OOP場來補償RKKY場。簡單地說，我們首先在Hall bar的橫截面上注入7.5 mA的3 s脈沖電流，在Hall bar的左端觀察到一個有核的向下區域，并向+x區域擴展。隨后，在RKKY等效的現場應用中，左右兩側的DW都向成核點中心收縮，即DW收縮。然后，從x方向連續6個6 s周期注入占空比為50%的3.35 mA脈沖電流，下向上（DU） DW在電流的驅動下逐漸向右移動，當去除電流時，在RKKY相互作用下向左移動。施加第六次脈沖后，DU DW到達霍爾棒的交叉區域，通過異 ...