上，然后通過刻蝕的方法將圖形轉移到晶圓片上來制作電子電路的技術。其中光刻系統(tǒng)被稱為光刻機，帶有圖形的石英板稱為掩膜，光敏記錄材料被稱為光刻膠或抗蝕劑。具體光刻流程如下圖所示 光刻技術是集成電路制造、印刷電路板制造以及微機電元件制造等微納加工領域的核心技術之一。進入21世紀以來,隨著電子信息產業(yè)的高速發(fā)展,集成電路的需求出現了井噴式的增長。使的對掩膜的需求急劇增加，目前制作掩膜的主要技術是電子束直寫，但該制作效率非常低下，并且成本也不容小覷，在這種背景下人們把目光轉移到了無掩膜光刻技術。 備受關注的無掩膜光刻技術大概可以分為兩類：1）帶電粒子無掩膜光刻；例如電子束直寫和離子束光刻技術 ...

、超薄材料上刻蝕出小于200nm寬度的納米線，這樣超薄、超窄的納米線，可以保證快速的熱弛豫過程。對于光子到脈沖的轉換過程我們看下面這幅圖，展示了光子打在超導材料上，產生熱點變?yōu)橛凶钁B(tài)，再轉變到超導態(tài)的整個過程。在超導態(tài)下，納米芯片的兩端沒有產生電壓差或者說電壓差很小，這時候，打入一個光子，在材料上產生熱點，隨著能量的釋放，原本沒有電壓差的兩端，這時候產生了電壓差，并且電壓差持續(xù)增大，直到這個熱點的能量逐漸降低，也就是說的熱弛豫過程，完成這一過程后，超導態(tài)逐漸恢復，兩端的電壓逐漸減小，如果將脈沖放大，我們得到下圖的脈沖信號。從上面的原理簡述中，我們暫時還看不到探測效率如何。對于探測效率更共識的一 ...

這可能是由于刻蝕和遷移過程所引起的。對于一個低于2V的注入偏壓來說，拉曼光譜與原始光譜相似。然而當外加電壓高于3V時，G峰和D峰都有明顯的增加并且在偏壓增加到3V時G峰從1580cm-1偏移到1603cm-1。G峰強度的增加對于通過注入的摻雜效應是一個顯示，同時G峰上移23cm-1 表明了成功注入。D峰強度的增加表明注入過程中在石墨烯層缺陷的增加，這增強了注入的過程。對于高于4V的偏壓，隨著2D峰的減弱出現了很強的熒光背景，這進一步表明了注入過程中強有力摻雜效應。再去除外加電壓之后，石墨烯表面出現了和原始樣品相似的拉曼光譜。圖1. 離子液體注入多層石墨烯器件的原位拉曼測試：（a）原位拉曼測試過 ...

功率飛秒激光刻蝕工藝實現了簡單且環(huán)保的 MoS2 QDs 制造。圖1 MoS2的光譜表征（a）MoS2量子點（紅色）、1T相塊狀MoS2(藍色)、2H相塊狀MoS2（紅色）的拉曼光譜（b）典型的MoS2納米片和上述方法制備的MoS2量子點的紫外-可見光譜（c）上述方法制備的MoS2量子點溶液分別在300nm,320nm,340nm和360nm激發(fā)光下的PL光譜上圖a 顯示了 1T 和 2H MoS2 的典型拉曼振動，這表明通過 n-BuLi 處理和激光燒蝕步驟成功實現了相變。可以看出，1T 相 MoS2 有三種拉曼振動，分別對應J1、J2 和 J3 模式。由于成功相變到2H相，這些具有代表性的 ...

砂處理、化學刻蝕、等離子噴涂和激光加工等。這些加工方式都是通過改變鈦合金表面，獲得多維度紋理，凹坑、溝槽、深孔等幾種形貌組合。結語：作為人體骨組織的有效替代品，鈦的這些優(yōu)點已經被認可并被廣泛應用。而鈦合金表面處理卻往往被人們忽視，通過對鈦合金的表面進行處理，改變鈦合金的表面形貌、微結構，可以提高鈦合金的生物相容性，讓人體組織更快速的附著在鈦合金表面生長，從而幫助病人恢復健康。了解更多詳情，請訪問上海昊量光電的官方網頁：http://www.arouy.cn/three-level-37.html更多詳情請聯(lián)系昊量光電/歡迎直接聯(lián)系昊量光電關于昊量光電：上海昊量光電設備有限公司是光 ...

技術為氫氟酸刻蝕、噴砂、硅烷偶聯(lián)化等，一般認為2.5%-10%的氫氟酸刻蝕玻璃陶瓷0.5-3 min，可獲得zui佳粘接強度，但氫氟酸對人體具有毒性和強腐蝕性，且當已粘固的口內陶瓷修復體斷裂需要重新粘接時，氫氟酸因其強腐蝕性無法用于口內粘接前處理。Er:YAG激光是一種新出現的口腔治療激光，由于其高效、安全的切割能力，在牙科陶瓷材料表面處理方面有著巨大的應用前景。1 Er:YAG激光作用于陶瓷材料表面處理的機制Er:YAG激光（鉺、釔、鋁、石榴石）是一種水動力生物激光系統(tǒng)，波長為2.94 um。相比其他激光，Er:YAG激光較為突出的特點為可對硬組織進行作用，照射時可精確控制對深層組織的熱穿透 ...

保圖形的精確刻蝕至關重要。在光刻過程中，激光束需要精確地照射到硅片上的特定區(qū)域，以實現圖形的準確轉移。如果激光指向不穩(wěn)定，會導致圖形位置偏移、尺寸變化等問題，嚴重影響產品的質量和性能。其次，激光指向的穩(wěn)定性還關系到光刻的重復性和一致性。在半導體制造中，往往需要對大量的硅片進行光刻處理，這就要求光刻過程具有高度的可重復性和一致性。如果激光指向不穩(wěn)定，每次光刻的結果都會有所差異，導致產品批次間的性能不一致，增加了制造難度和成本。因此，激光指向的穩(wěn)定性在不斷提升的精度要求下顯得尤為重要。我們可以通過減小振動和降低溫度變化等方式實現光束的相對穩(wěn)定，但這只是一種被動的補償方式，而且無法徹底規(guī)避這些干擾。 ...

(ICP)中刻蝕20 μ m寬的多模波導。端面采用韌性切割制備。波導測量使用圖1 a)所示的設備進行。使用量子級聯(lián)激光器(QCL) (Block Engineering Inc.)在1900-800 cm-1(波長5.3 - 12.9μm)范圍內可調諧作為光源和兩個硒化鋅物鏡用于輸入和輸出耦合。在獲取透射光譜之前，將QCL設置為12.9μm，對準后在紅外相機(Xenics-Gobi 640)上對波導輸出進行成像，在TM偏振下的輸出強度分布如圖1b所示。模態(tài)強度分布(COMSOL)模擬顯示，沿x軸和y軸的FWHM分別為10.1μm和2.3μm。采用熱電冷卻型碲化汞鎘(MCT)探測器(VIGO系統(tǒng) ...

(ICP)中刻蝕20 μ m寬的多模波導。端面采用韌性切割制備。波導測量使用圖1 a)所示的設備進行。使用量子級聯(lián)激光器(QCL) (Block Engineering Inc.)在1900-800 cm-1(波長5.3 - 12.9μm)范圍內可調諧作為光源和兩個硒化鋅物鏡用于輸入和輸出耦合。在獲取透射光譜之前，將QCL設置為12.9μm，對準后在紅外相機(Xenics-Gobi 640)上對波導輸出進行成像，在TM偏振下的輸出強度分布如圖1b所示。模態(tài)強度分布(COMSOL)模擬顯示，沿x軸和y軸的FWHM分別為10.1μm和2.3μm。采用熱電冷卻型碲化汞鎘(MCT)探測器(VIGO系統(tǒng) ...

諧振腔通常是刻蝕在基材上的小結構件，在使用泵浦激光驅動時可以生成光頻梳。雖然MRR的重復頻率可以達到很高的水平（圖1b），但是它們也有重復頻率波動和光頻不穩(wěn)定的問題，這限制了長時測距的精確度。西安光機所和華中科技大學的科研團隊提出的解決方案時使用一個光纖光頻梳和一個MRR組成的DFC系統(tǒng)，如 圖2所示。在這個系統(tǒng)中，一路調制的二極管激光（ECDL）用于MRR的泵浦源。在探測用于檢測的樣品前MRR的輸出會經過一個光纖放大器（EDFA）。光纖光頻梳不僅提供了穩(wěn)定的本振源來用于解調，同時十分重要的是提供了參考信號用于鎖定泵浦激光器。Moku:Lab的激光鎖頻/穩(wěn)頻器（圖2中標記為“Servo”）用于 ...