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3D超分辨率單分子定位顯微鏡模塊（無需掃描）
采用光學照射掩模版的方式將圖案轉移到掩模版上；而在無掩模光刻中，對目標圖案的轉印不需要掩模版，而是通過電子束或光學的方式直接在基片上制作出所需要的圖案，這種方式避免了傳統方式制作掩模版效率低、分辨率低、成本高的缺點。2、何為DMD無掩模光刻？DMD無掩模光刻是光學無掩模光刻技術的一種，該技術使用數字DMD代替傳統的掩模，借助于DMD對常規掩膜予以取代而展開光刻成像，借助DMD對光源展開反射式調制，把涉及的虛擬數字掩膜移至硅晶圓基片，進而進行曝光。DMD無掩模光刻系統本質上是一種高精度加工平臺，如下圖所示，主要包括投影光源部分、DMD光調制部分、投影物鏡和光可調平臺部分。圖2：法國Microli ...
殊設計的相位掩模版，從工程化點擴散函數 (E-PSF)出發，使用螺旋相位掩模板來控制景深、發射波長和精度，結合3DTRAX軟件對3D圖像進行重建和分析，可在不需要掃描的條件下即時捕獲 3D 信息，得到無與倫比的深度和精度3D圖像，橫向精度可達20nm, 軸向精度可達25nm，成像深度可達20um。當與其他工具和技術，包括STORM、PALM、SOFI、光片顯微、寬場、寬場顯微、TIRF、FRET等一起使用時，可釋放巨大的潛力，適用于活細胞、固定細胞和全細胞成像、單分子、粒子跟蹤和粒子計數等應用。圖1：SPINDLE2雙通道顯微鏡模塊，用于同時多色、多深度3D成像SPINDLE2可以被很容易地安 ...
擇合適的相位掩模版以實現基于深度范圍、發射波長和信噪比等參數對點擴散函數（PSF）的優化，更重要的是，SPINDLE可在無需掃描的情況下在單張圖像中將傳統成像系統的景深擴大10倍。在本文中，我們展示了如何將SPINDLE成像系統與傳統熒光顯微鏡結合使用以在所有三個維度（x、y、z）上實現亞衍射極限成像。SPINDLE可與任何高質量的科學相機兼容，無論是EMCCD還是sCMOS都可以提供定位顯微鏡所需的高信噪比圖像。使用SPINDLE和DH-PSF相位掩模版對細胞微管進行三維超分辨成像在本文中，我們證明了使用SPINDLE單通道模塊可以實現高精度、大深度的超分辨率重建。如圖1所示，使用Doubl ...
的金屬表面（掩模版直徑為20um）。在20微米的尺度上存在明顯的粗糙度，但在<5微米的尺度上可以看到平滑區域粗糙表面在微觀水平上呈現出峰狀和光滑區域（圖2）。很明顯，在20um尺度上存在明顯的粗糙度，但在<5um尺度上存在光滑區域。因此，應該可以選擇足夠小的測量點來減少粗糙度影響。事實上，圖3、4的結果表明，使用2um測量點表面粗糙度效應實際上可以消除，并且可以可靠地測量涂層厚度。粗糙度拓撲還會導致微觀層面上涂層厚度的變化——這是測量退化的潛在來源（我們將在下面回顧）。但較小的光斑尺寸也有助于減少這種情況。盡可能小的測量點尺寸并不總是能給出結果。光斑尺寸需要根據特定應用進行優化。圖 ...
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