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DMD無掩模光刻機
DLP/DMD光刻照明光源
DLP光學引擎
ce）的全新無掩模光刻系統，因此SP-UV可以兼容所有標準的微電子光刻膠，包括微流體應用中不可或缺的i-line光阻劑SU-8。這一特點為半導體加工領域的開發人員，在光刻膠材料的選擇上提供了更加廣闊的空間。DMD無掩膜光刻機SP-UV的優勢之一是對DMD光學投影技術的應用。這一技術在提高直寫精度和速度的同時，提供了四種不同的直寫分辨率。搭配Microlight3D的“快速切換”物鏡系統，僅需2秒就能完成分辨率切換。Microlight3D首席執行官Denis Barbier表示:“Microlight3D的SP-UV技術可以與更廣泛光刻膠材料相兼容。在為無掩模光刻的應用開拓了新的領域的同時，滿 ...
圖示1、何為無掩模光刻？無掩膜光刻即不采用光刻掩模板的光刻技術。在傳統光刻過程中，需要采用光學照射掩模版的方式將圖案轉移到掩模版上；而在無掩模光刻中，對目標圖案的轉印不需要掩模版，而是通過電子束或光學的方式直接在基片上制作出所需要的圖案，這種方式避免了傳統方式制作掩模版效率低、分辨率低、成本高的缺點。2、何為DMD無掩模光刻？DMD無掩模光刻是光學無掩模光刻技術的一種，該技術使用數字DMD代替傳統的掩模，借助于DMD對常規掩膜予以取代而展開光刻成像，借助DMD對光源展開反射式調制，把涉及的虛擬數字掩膜移至硅晶圓基片，進而進行曝光。DMD無掩模光刻系統本質上是一種高精度加工平臺，如下圖所示，主要 ...
D投影技術的無掩模光刻設備，可兼容多種電阻和基片。SMART PRINT UV可以生產任何微米分辨率的二維形狀，而不需要硬掩模。基于改進后的標準投影技術，投影出具有微米分辨率的圖像。DMD無掩模光刻機最后便會在一整片晶圓上完成很多 IC 芯片，接下來只要將完成的方形 IC 芯片剪下，便可送到封裝廠做封裝。最后，對產生的芯片質量檢測可利用該款產品進行操作。脈寬可調納秒激光器（芯片缺陷檢測用）您可以通過我們的官方網站了解更多的產品信息，或直接來電咨詢4006-888-532。 ...
使用DMD的無掩模光刻的論文。利用DMD的生產系統已經由多家原始設備制造商推出。 通常，這些工具選擇使用多個中到高分辨率DMD以實現高數據吞吐量，并在365-410nm范圍內工作。典型工作條件是在DMD上的3-5W / cm2 照明，溫度保持在30°C以下。 基于這些條件，制造商已經能夠將DMD系統穩定運行。設備在 UV-A 范圍內的 3.4W/cm2 、25°C條件下始終表現出超過 3000 小時的運行時間。生產合格的UV DMD中使用的標準UV窗口具有320-400nm的可用透射率區間。為了在低于此值的波長下測試和操作設備，需要一個低于320nm的高透射率的特殊窗口。DMD技術概述DMD是 ...
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