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中文：干涉光刻；英文：interference lithography

解釋
中文：干涉光刻；英文：interference lithography的原理；中文：干涉光刻；英文：interference lithography的定義；中文：干涉光刻；英文：interference lithography是什么。
 利用雙光束、多光束的干涉圖樣，一次曝光或者多次曝光實(shí)現(xiàn)的一種無掩模光刻工藝。常用于周期圖形的制備，如周期性光柵、孔陣、點(diǎn)陣、柱陣等圖形。
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