用寬可調(diào)諧外光柵腔量子級聯(lián)激光器（QCL）在檢測水平上成功檢測另一種CWA模擬物，二甲基膦酸甲酯（DMMP），該檢測水平有助于確保公共安全和誤報率足夠低，以盡量減少不必要的經(jīng)濟中斷的發(fā)生。圖1采用金屬有機化學氣相沉積法生長QCL芯片，長3mm，增益中心為，為9:6 μm。在室溫下，該QCL在具有未涂層面的Fabry-Perot （FP）幾何結構中運行時，每個面產(chǎn)生約65mw的連續(xù)波功率。多模FP光譜覆蓋9450-9750 nm（圖1）。為了獲得在圖1所示的幾乎整個波長范圍內(nèi)可調(diào)諧的單頻可調(diào)諧功率輸出，我們將QCL增益芯片集成到物理長度為27 mm的外部光柵腔配置中。將未涂覆的QCL增益芯片安裝 ...

使用高對比度光柵（HCG）或DBR的可移動膜結構也常用于波長調(diào)諧。它們可以由靜電、電熱或壓電力驅動。具有體加工MEMS DBR的VCSEL需要幾個獨立的外延生長和復雜的鍵合過程。HCG-VCSELs在極化控制、高速數(shù)據(jù)傳輸和高波長調(diào)諧速度方面具有廣闊的應用前景；但廣泛的可調(diào)性仍然是一個研究課題。另一方面，與電泵浦VCSEL相比，光泵浦可調(diào)諧VCSEL自然具有更短的腔，表現(xiàn)出非常寬的調(diào)諧范圍。然而，直接調(diào)制是不可能的。通過采用表面微加工技術，我們已經(jīng)為上一代VCSEL（未針對高速應用進行優(yōu)化）展示了創(chuàng)紀錄的102nm單模連續(xù)調(diào)諧。表面微加工消除了晶圓鍵合的需要，而是使用沉積的介電DBR反射鏡，這 ...

SU TB9光柵濾波器。下面將解釋這個過濾器的功能。圖1 實驗設置。PolMux：偏振多路復用器，OF：光濾波器，LO：本振，DGEF：動態(tài)增益均衡器濾波器。插圖為電驅動信號、VCSEL輸出光信號和脫機處理后恢復的星座示意圖。傳輸實驗在4x80km的EDFA放大SSMF循環(huán)環(huán)路中進行，沒有任何色散補償。每個環(huán)路后使用動態(tài)增益均衡濾波器（DGEF）來阻斷放大的自發(fā)發(fā)射（ASE）噪聲，并通過EDFA補償開關和DGEF的損失。在接收端，信號由偏振分集為90°的自由運行可調(diào)諧外腔激光（ECL）本振（LO）混合，隨后是4個帶寬為40GHz的平衡探測器。當本端頻率遠離發(fā)射機VCSEL幾GHz時，性能不會發(fā) ...

電陶瓷）控制光柵的旋轉，從而控制激光輸出的波長。小信號調(diào)制電壓可以加在PZT上，調(diào)制激光輸出頻率，調(diào)制頻率可到達KHz量級。而MOGLabs還有新型的“cateye”（貓眼式）ECDL，采用貓眼式反射鏡以及超窄帶寬濾波器組合替代Littrow或Littman結構中的光柵決定輸出波長，在這里PZT主要控制外腔的腔長，同樣起到調(diào)諧波長的作用。Littrow和Littman-Metcalf配置的可調(diào)諧外腔二極管激光器cateye外腔二極管激光器（ECDL）原理圖LD電流LD電流主要影響峰值增益，不同的電流對應不同的峰值增益，峰值增益又和頻率對應，而激光器一般就工作在峰值增益點。電流調(diào)制影響的是內(nèi)部載 ...

.3 nm的光柵光譜儀(Ibsen I-MON 512)和2 × 2耦合器(Thorlabs, TW1550R5A2)組成。組件通過2x2耦合器連接(Thorlabs TW1550R5A2)。光纖光柵傳感器(Optromix)嵌在SM1500光纖中，反射率為全寬半MAX值(FWHM)為0.2 nm。多模干涉儀(MMI)是通過拼接14.2 mm的薄芯(TC)光纖(SM400)或無芯制成的(CL)光纖(FG125LA, Thorlabs)到單模光纖(SMF)的末端。Iceblink是一款覆蓋450- 2300nm光譜范圍的超連續(xù)光纖激光器，具有超過3W的平均功率和卓越的穩(wěn)定性(0.5%標準偏差)。 ...

GaAs犧牲光柵層的有源核心完成后被中斷。電子束光刻是為了直接在InGaAs犧牲層的頂部跟蹤光柵圖案，然后蝕刻以獲得單模工作所需的波導有效折射率的周期調(diào)制。包層和頂層生長在圖案核心材料的頂部，特別小心，以便在光柵層頂部再生的末端獲得一個平坦的表面。隨后的器件制造過程如下對于法布里-珀羅埋地異質(zhì)結構器件。在圖2(b)中可以看到z終DFB制造器件沿著波導腔切割的SEM圖像，其中活性材料頂部的薄光斑表明存在InGaAs犧牲層。在側裂波導中，這代表了通過電子束圖案化和蝕刻InGaAs層獲得的周期性結構。當需要時，通過介質(zhì)沉積在先前隔離的激光切面上的金屬涂層進行電子束蒸發(fā)來完成HR涂層。金屬涂層的優(yōu)點是 ...

常預期值。對光柵與光學模式耦合的更深入的探討將在其他地方提出。發(fā)射波長與溫度的相關性為λ/T = 0.4 nm/K，并且從連續(xù)波波長與脈沖低占空比操作的紅移中，我們能夠估計出器件的熱阻為5 K/W，優(yōu)于QCL器件通常在10 K/W左右的平均測量值。圖6(a)所示發(fā)射光譜對應的光柵周期為δ = 1.21 μm，對應的有效折射率為neff = 3.198。更多詳情請聯(lián)系昊量光電/歡迎直接聯(lián)系昊量光電關于昊量光電：上海昊量光電設備有限公司是光電產(chǎn)品專業(yè)代理商，產(chǎn)品包括各類激光器、光電調(diào)制器、光學測量設備、光學元件等，涉及應用涵蓋了材料加工、光通訊、生物醫(yī)療、科學研究、國防、量子光學、生物顯微、物聯(lián)傳 ...

質(zhì)（如棱鏡或光柵）時，由于不同頻率（或波長）的光具有不同的折射率，它們會以不同的角度偏折，從而在離開介質(zhì)時各自分散，形成光譜。應用：一些領域需要將一定范圍的帶寬中所有的波長都進行分析，那么超連續(xù)譜就是一款非常適合的選擇方案。這里一個案例主要目的是確定不同材料的色散曲線，研究其不同的折射率。色散曲線是描述材料的折射率隨波長變化的數(shù)學函數(shù)。曲線可以用數(shù)學方程近似表示，如柯西色散方程，如圖1所示。圖1:不同材料色散曲線的實驗數(shù)據(jù)點和Cauchy擬合通過超連續(xù)譜的寬光譜應用得到了發(fā)揮，事實上，超連續(xù)譜激光器在這一過程中扮演著關鍵角色。超連續(xù)光譜激光器覆蓋了廣泛的光譜范圍，這對于測量材料在寬波長范圍內(nèi)的 ...

DSUTB9光柵濾波器，帶寬為0.52nm，中心頻率低于信號光譜，如圖2(b)所示。在直接調(diào)制激光中，高強度符號相對于低強度符號發(fā)生藍移。當我們以圖2(b)所示的方式對齊濾波器和信號波長時，信號的紅移部分（低強度符號）比藍移部分（高強度符號）衰減更高。如圖2(a)插圖所示，等間隔的4級電驅動信號產(chǎn)生等強度間隔的4PAM光信號，經(jīng)過濾光片后，由于濾光片的調(diào)頻/調(diào)幅轉換，光信號強度電平成為二次間隔。這導致了等間隔的幅度電平，可以顯著提高相干探測系統(tǒng)的性能。圖2(b)顯示，在-50dB范圍內(nèi)，兩個VCSELs具有穩(wěn)定的單模工作和輸出波長，沒有觀測到其他模式。經(jīng)調(diào)制后，-30db處的光信號帶寬約為0. ...

薄膜表面進行光柵掃描，從而在薄膜上形成特征。在這個過程中，將聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）薄膜涂覆在一個表面上，然后引導電子束在樣品上掃描，使特定區(qū)域的PMMA曝光。之后對薄膜進行顯影，去除曝光的PMMA，從而在薄膜上留下圖案。這些圖案的特征尺寸可小至100納米。掃描電子顯微鏡本身的Max照相放大倍數(shù)為300,000倍，能夠看到小至3納米的特征。振動挑戰(zhàn)掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡系統(tǒng)極易受到來自環(huán)境的振動影響。隨著分辨率不斷從微米級跨越到納米級，像這樣的顯微鏡工具對更精確的隔振需求變得愈發(fā)關鍵。當測量幾埃或幾納米的位移時，必須為儀器建立一個絕對穩(wěn)定的表面。振動可以通過地板傳遞到原子力顯微鏡，不 ...