用寬可調諧外光柵腔量子級聯激光器（QCL）在檢測水平上成功檢測另一種CWA模擬物，二甲基膦酸甲酯（DMMP），該檢測水平有助于確保公共安全和誤報率足夠低，以盡量減少不必要的經濟中斷的發生。圖1采用金屬有機化學氣相沉積法生長QCL芯片，長3mm，增益中心為，為9:6 μm。在室溫下，該QCL在具有未涂層面的Fabry-Perot （FP）幾何結構中運行時，每個面產生約65mw的連續波功率。多模FP光譜覆蓋9450-9750 nm（圖1）。為了獲得在圖1所示的幾乎整個波長范圍內可調諧的單頻可調諧功率輸出，我們將QCL增益芯片集成到物理長度為27 mm的外部光柵腔配置中。將未涂覆的QCL增益芯片安裝 ...

使用高對比度光柵（HCG）或DBR的可移動膜結構也常用于波長調諧。它們可以由靜電、電熱或壓電力驅動。具有體加工MEMS DBR的VCSEL需要幾個獨立的外延生長和復雜的鍵合過程。HCG-VCSELs在極化控制、高速數據傳輸和高波長調諧速度方面具有廣闊的應用前景；但廣泛的可調性仍然是一個研究課題。另一方面，與電泵浦VCSEL相比，光泵浦可調諧VCSEL自然具有更短的腔，表現出非常寬的調諧范圍。然而，直接調制是不可能的。通過采用表面微加工技術，我們已經為上一代VCSEL（未針對高速應用進行優化）展示了創紀錄的102nm單模連續調諧。表面微加工消除了晶圓鍵合的需要，而是使用沉積的介電DBR反射鏡，這 ...

SU TB9光柵濾波器。下面將解釋這個過濾器的功能。圖1 實驗設置。PolMux：偏振多路復用器，OF：光濾波器，LO：本振，DGEF：動態增益均衡器濾波器。插圖為電驅動信號、VCSEL輸出光信號和脫機處理后恢復的星座示意圖。傳輸實驗在4x80km的EDFA放大SSMF循環環路中進行，沒有任何色散補償。每個環路后使用動態增益均衡濾波器（DGEF）來阻斷放大的自發發射（ASE）噪聲，并通過EDFA補償開關和DGEF的損失。在接收端，信號由偏振分集為90°的自由運行可調諧外腔激光（ECL）本振（LO）混合，隨后是4個帶寬為40GHz的平衡探測器。當本端頻率遠離發射機VCSEL幾GHz時，性能不會發 ...

電陶瓷）控制光柵的旋轉，從而控制激光輸出的波長。小信號調制電壓可以加在PZT上，調制激光輸出頻率，調制頻率可到達KHz量級。而MOGLabs還有新型的“cateye”（貓眼式）ECDL，采用貓眼式反射鏡以及超窄帶寬濾波器組合替代Littrow或Littman結構中的光柵決定輸出波長，在這里PZT主要控制外腔的腔長，同樣起到調諧波長的作用。Littrow和Littman-Metcalf配置的可調諧外腔二極管激光器cateye外腔二極管激光器（ECDL）原理圖LD電流LD電流主要影響峰值增益，不同的電流對應不同的峰值增益，峰值增益又和頻率對應，而激光器一般就工作在峰值增益點。電流調制影響的是內部載 ...

.3 nm的光柵光譜儀(Ibsen I-MON 512)和2 × 2耦合器(Thorlabs, TW1550R5A2)組成。組件通過2x2耦合器連接(Thorlabs TW1550R5A2)。光纖光柵傳感器(Optromix)嵌在SM1500光纖中，反射率為全寬半MAX值(FWHM)為0.2 nm。多模干涉儀(MMI)是通過拼接14.2 mm的薄芯(TC)光纖(SM400)或無芯制成的(CL)光纖(FG125LA, Thorlabs)到單模光纖(SMF)的末端。Iceblink是一款覆蓋450- 2300nm光譜范圍的超連續光纖激光器，具有超過3W的平均功率和卓越的穩定性(0.5%標準偏差)。 ...

GaAs犧牲光柵層的有源核心完成后被中斷。電子束光刻是為了直接在InGaAs犧牲層的頂部跟蹤光柵圖案，然后蝕刻以獲得單模工作所需的波導有效折射率的周期調制。包層和頂層生長在圖案核心材料的頂部，特別小心，以便在光柵層頂部再生的末端獲得一個平坦的表面。隨后的器件制造過程如下對于法布里-珀羅埋地異質結構器件。在圖2(b)中可以看到z終DFB制造器件沿著波導腔切割的SEM圖像，其中活性材料頂部的薄光斑表明存在InGaAs犧牲層。在側裂波導中，這代表了通過電子束圖案化和蝕刻InGaAs層獲得的周期性結構。當需要時，通過介質沉積在先前隔離的激光切面上的金屬涂層進行電子束蒸發來完成HR涂層。金屬涂層的優點是 ...

常預期值。對光柵與光學模式耦合的更深入的探討將在其他地方提出。發射波長與溫度的相關性為λ/T = 0.4 nm/K，并且從連續波波長與脈沖低占空比操作的紅移中，我們能夠估計出器件的熱阻為5 K/W，優于QCL器件通常在10 K/W左右的平均測量值。圖6(a)所示發射光譜對應的光柵周期為δ = 1.21 μm，對應的有效折射率為neff = 3.198。更多詳情請聯系昊量光電/歡迎直接聯系昊量光電關于昊量光電：上海昊量光電設備有限公司是光電產品專業代理商，產品包括各類激光器、光電調制器、光學測量設備、光學元件等，涉及應用涵蓋了材料加工、光通訊、生物醫療、科學研究、國防、量子光學、生物顯微、物聯傳 ...

質（如棱鏡或光柵）時，由于不同頻率（或波長）的光具有不同的折射率，它們會以不同的角度偏折，從而在離開介質時各自分散，形成光譜。應用：一些領域需要將一定范圍的帶寬中所有的波長都進行分析，那么超連續譜就是一款非常適合的選擇方案。這里一個案例主要目的是確定不同材料的色散曲線，研究其不同的折射率。色散曲線是描述材料的折射率隨波長變化的數學函數。曲線可以用數學方程近似表示，如柯西色散方程，如圖1所示。圖1:不同材料色散曲線的實驗數據點和Cauchy擬合通過超連續譜的寬光譜應用得到了發揮，事實上，超連續譜激光器在這一過程中扮演著關鍵角色。超連續光譜激光器覆蓋了廣泛的光譜范圍，這對于測量材料在寬波長范圍內的 ...

DSUTB9光柵濾波器，帶寬為0.52nm，中心頻率低于信號光譜，如圖2(b)所示。在直接調制激光中，高強度符號相對于低強度符號發生藍移。當我們以圖2(b)所示的方式對齊濾波器和信號波長時，信號的紅移部分（低強度符號）比藍移部分（高強度符號）衰減更高。如圖2(a)插圖所示，等間隔的4級電驅動信號產生等強度間隔的4PAM光信號，經過濾光片后，由于濾光片的調頻/調幅轉換，光信號強度電平成為二次間隔。這導致了等間隔的幅度電平，可以顯著提高相干探測系統的性能。圖2(b)顯示，在-50dB范圍內，兩個VCSELs具有穩定的單模工作和輸出波長，沒有觀測到其他模式。經調制后，-30db處的光信號帶寬約為0. ...

薄膜表面進行光柵掃描，從而在薄膜上形成特征。在這個過程中，將聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）薄膜涂覆在一個表面上，然后引導電子束在樣品上掃描，使特定區域的PMMA曝光。之后對薄膜進行顯影，去除曝光的PMMA，從而在薄膜上留下圖案。這些圖案的特征尺寸可小至100納米。掃描電子顯微鏡本身的Max照相放大倍數為300,000倍，能夠看到小至3納米的特征。振動挑戰掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡系統極易受到來自環境的振動影響。隨著分辨率不斷從微米級跨越到納米級，像這樣的顯微鏡工具對更精確的隔振需求變得愈發關鍵。當測量幾埃或幾納米的位移時，必須為儀器建立一個絕對穩定的表面。振動可以通過地板傳遞到原子力顯微鏡，不 ...