光學(xué)元件，如物鏡，可以在磁場存在的情況下引起法拉第旋轉(zhuǎn)，這種旋轉(zhuǎn)會疊加在由樣品磁性引起的任何光旋轉(zhuǎn)上。如果您對磁學(xué)測量有興趣，請訪問上海昊量光電的官方網(wǎng)頁：http://www.arouy.cn/three-level-150.html更多詳情請聯(lián)系昊量光電/歡迎直接聯(lián)系昊量光電關(guān)于昊量光電：上海昊量光電設(shè)備有限公司是光電產(chǎn)品專業(yè)代理商，產(chǎn)品包括各類激光器、光電調(diào)制器、光學(xué)測量設(shè)備、光學(xué)元件等，涉及應(yīng)用涵蓋了材料加工、光通訊、生物醫(yī)療、科學(xué)研究、國防、量子光學(xué)、生物顯微、物聯(lián)傳感、激光制造等；可為客戶提供完整的設(shè)備安裝，培訓(xùn)，硬件開發(fā)，軟件開發(fā)，系統(tǒng)集成等服務(wù)。您可以通過我們昊量 ...

實現(xiàn)的。由于物鏡的傾斜，只有一小片樣品被聚焦，該區(qū)域由光學(xué)系統(tǒng)的景深確定。磁性試樣的過焦和過焦可以通過使物鏡遠離照明軸傾斜從而在相機傳感器處獲得聚焦圖像的方式來克服。因此，所得到的樣品圖像，然后由于本質(zhì)上不同的放大系數(shù)在顯微鏡的視野扭曲。這一問題可以通過實時成像處理來糾正圖像透視失真來消除。通過使用遠心鏡頭和Scheimpflug相機支架，可以實現(xiàn)整個視場的恒定放大率和恒定焦距。一個優(yōu)化的遠心克爾顯微鏡系統(tǒng)的原理草圖如圖1a所示。即使在觀測軸強烈傾斜的情況下，也能獲得零畸變磁圖像。得到的域圖像仍然被垂直于光入射平面的壓縮，并且需要進行線性運算以獲得均衡的圖像映射。典型的應(yīng)用來自磁電復(fù)合懸臂式傳 ...

由于顯微鏡的物鏡必須放置在離樣品表面非常近的地方(高倍率透鏡的距離在幾百微米之間，低倍率物鏡的距離在幾毫米之間)，施加的磁場可能會誘發(fā)寄生法拉第效應(yīng)，這種效應(yīng)疊加在由樣品磁性引起的任何光旋轉(zhuǎn)上[見圖1(b)]。這種效應(yīng)對于沿物鏡軸施加的磁場是重要的，但是從樣品中出現(xiàn)的不均勻的面內(nèi)場或雜散場也可能在透鏡中產(chǎn)生法拉第旋轉(zhuǎn)這樣的貢獻可能會降低域圖像的質(zhì)量，導(dǎo)致對實驗數(shù)據(jù)的誤解，或給矢量克爾顯微鏡帶來實質(zhì)性的錯誤。法拉第效應(yīng)zui嚴(yán)重的影響發(fā)生在克爾顯微鏡中，通過繪制圖像的整個或局部選定區(qū)域的強度作為磁場的函數(shù)(MOKE磁強計)來測量MOKE磁化回路。高度扭曲的循環(huán)可能會出現(xiàn)，如下面的各種例子所示。基 ...

激波長反射到物鏡，物鏡將光束集中到標(biāo)本上。從標(biāo)本反 射的光集中在物鏡中，在其激發(fā)態(tài)通常具有比入射光更高的波長。通過二向色鏡，反射光通過發(fā)射濾光片并降低到發(fā)射波長。尚未在二向色鏡處停止的刺激光的殘留物在發(fā)射濾光片處被過濾掉。理想情況下，只有發(fā)射光撞擊顯微鏡內(nèi)置的檢測器，并以相應(yīng)的顏色可見。好的測量結(jié)果需要均勻的照明，尤其是當(dāng)需要幾微米或幾毫米的大視野時。在不均勻照明的情況下，例如，可能發(fā)生待檢查分子的不均勻激活。結(jié)果：中心的分子比入射照明光束外圍的分子發(fā)出更強烈的熒光。如果周邊沒有與中心等同地照亮，則當(dāng)單獨記錄的圖像網(wǎng)格稍后合并時，陰影繼續(xù)出現(xiàn)。因此，細(xì)胞和組織樣本等測量不能用于可靠的分析。這些 ...

使用100倍物鏡沿光學(xué)z軸在不同平面拍攝的暗場圖像。焦平面位于（a）玻璃基底表面（S點）或（b）人類乳腺癌細(xì)胞的頂部表面或細(xì)胞內(nèi)部（C點）[1]。與華盛頓大學(xué)的David Ginger教授合作，使用Photon etc.公司的高光譜暗場成像儀對100納米的AuNPs進行了研究。從432nm到849nm以3nm的步長獲取了散射數(shù)據(jù)。圖2（a）和（b）顯示了高光譜結(jié)果和從數(shù)據(jù)中提取的典型散射光譜（c）。波長的變化有助于確定顆粒的大小，空間信息有助于評估顆粒的分布。圖2、（a）從高光譜數(shù)據(jù)中提取的576nm暗場圖像；（b）放大了提取光譜的區(qū)域；（c）提取的散射光譜。二、使用IMA獲得的結(jié)果在蒙特利爾 ...

）。在顯微鏡物鏡下的整個視場被激發(fā)，同時收集來自百萬個點的PL信號。圖2（a）和（b）顯示了CIGS微電池的PL和EL圖像。通過結(jié)合其光譜分辨的PL和EL圖以及光度絕對校準(zhǔn)方法，研究人員可以使用廣義普朗克定律來提取與電池zui大電壓直接相關(guān)的準(zhǔn)費米能級分裂（Δμeff）（見圖1（c）和（d））。借助太陽能電池和LED之間的互易關(guān)系，可以從EL圖像中推導(dǎo)出外部量子效率（EQE）。在樣品的整個表面上獲得微米級的基本特性有助于改進制造工藝，從而達到更高的電池效率。圖2.（a）集成PL發(fā)射和（b）集成EL發(fā)射的高光譜圖像。使用廣義普朗克定律，可以推導(dǎo)出（c）和（d）Δμeff映射。改編自[3]。了解更 ...

軸壓電平臺、物鏡掃描臺、快速反射鏡。X軸產(chǎn)品圖片Z軸產(chǎn)品圖片一維掃描平臺一維快反鏡2.PIEZOCONCEPT兩軸位移平臺兩軸壓電平臺可以提供兩個維度上的平移或偏轉(zhuǎn)，主要包括XY二維壓電納米位移臺和二維快反鏡。XY軸壓電平臺二維快反鏡3.PIEZOCONCEPT三軸位移平臺XYZ軸壓電平臺4. PIEZOCONCEPT位移臺獨特優(yōu)勢昊量光電推出“PIEZOCONCEPT”高精度單軸、雙軸、三軸納米級壓電位移臺、物鏡掃描臺、快反鏡系列產(chǎn)品；該壓電平臺以壓電陶瓷為驅(qū)動，采用了柔性鉸鏈連接的方法，具備精確導(dǎo)向性、高穩(wěn)定性、高抗疲勞性的特點，同時搭配高精度硅基位移傳感器、16Bit高分辨率高速控制器， ...

式、油性；水物鏡，每次小于20分鐘儲存條件：室溫（10-40℃）和正常相對濕度（20-70%RH）成像兼容性：除基于耗盡技術(shù)和多光子成像以外的任何基于熒光的成像損傷閾值：50GW/cm2輻照度（峰值或者平均功率）功率測量：10uW-100mW，可實時測量可用波長：350nm-1100nm可兼容延時拍攝。載玻片圖案：關(guān)于生產(chǎn)商：Argolight是一家法國的公司，專注于成像質(zhì)量的控制，他們與300多家公司、高校、科研院所保持良好合作。如果您對熒光顯微鏡校準(zhǔn)載玻片有興趣，請訪問上海昊量光電的官方網(wǎng)頁：http://www.arouy.cn/three-level-368.html更多 ...

導(dǎo)磁鐵)內(nèi)的物鏡。然后，從樣品(S)反射的光束通過圓偏振收集光學(xué)元件(QWP和LP)，用長通濾光片(LPass)過濾，然后聚焦到光纖上，該光纖通向帶有CCD相機(Andor)的750毫米光譜儀。采用可調(diào)諧連續(xù)波光源進行光激發(fā)。圖1.a)是極化PL設(shè)置。在輸入端和輸出端分別加一個短通(SPass)和長通(LPass)來降低泵浦激光噪聲。在收集方面，光纖可以通向光譜儀或單光子計數(shù)器。泵浦探針時間分辨裝置b)有一個FM(翻轉(zhuǎn)鏡)，可用于在TR(光電二極管)和TRKR(平衡光電二極管)測量之間切換。S是樣本的縮寫。所有的時間分辨測量都是在Quantum Design的OptiCool的測試版中完成的( ...

構(gòu)。激光束經(jīng)物鏡、針孔、準(zhǔn)直透鏡準(zhǔn)直，參考光學(xué)平面與準(zhǔn)直光束垂直，并采用光楔或減反射膜系來抑制它的背面反射。參考和測量面間的干涉條紋經(jīng)電視攝像機來探測。分束器或λ/4波片以及偏振分束器用來引導(dǎo)光束入射于電視攝像機上。這種斐索干涉儀，需要采用長焦距的準(zhǔn)直透鏡來獲得高的精度。干涉條紋函數(shù)I(x,y)：式中，I。為背景光強度；y(x,y)為條紋調(diào)制函數(shù)；φ(x,y)為被測條紋的位相分布函數(shù)；φ。為參考面與測量面間光程差引起的初位相.為了從干涉條紋函數(shù)中獲得位相分布函數(shù)φ(x,y),采用了相移法。相移時，條紋位相隨著光程或波長變化而發(fā)生移動。當(dāng)給定附加相移φi，干涉條紋函數(shù)I(x,y)為:理論上，為了 ...