m。在0，π衍射圖中，最大光柵周期為2個像素，入射波長為940 nm，SLM可以轉向的最大角度為3.36°。取物鏡焦距為7.2 mm，最大橫向位移為零點附近±423μm，或x和y的總橫向位移為847μm。這超出了目標可以成像的視野，同時保持目標的全部NA，因此不會犧牲激勵約束。此外，通過傅里葉變換，現在可以在樣本上創建1152 x 1152個焦點，這只能將目標可解析的焦點利用不到1.16倍。表1總結了1920 x 1152像素SLM和512 x 512像素SLM的客觀規格，光學系統，側向光束傳輸規格，其中SLM的圖像與SLM的圖像與目標后光圈的尺寸以及客觀利用率相匹配。 可以使用概述的方程針對 ...

因是光波存在衍射效應，使得一個理想無限小的點物體發射的光波通過系統成像后，由于成像系統口徑有限，物體光的高頻成分被阻擋，最終參與成像的只有物體光波的低頻成分（因此傳統成像系統本質上相當于一個低通濾波器），使得最終的像不再是一個無限小的理想點，而成為了一個彌散的亮斑，稱為“艾里斑”。因此當兩個點物體距離較近時，它們通過成像系統后形成的兩個艾里斑就會重疊到一起無法分辨，兩個物點恰能分辨的距離就是極限分辨距離，對應的張角即為極限分辨角，這就是著名的“瑞利判據”。科學家發現，通常情況下該極限分辨率與光的波長（λ）、成像系統口徑（D）和數值孔徑（NA）等參數有關。瑞利判據為了獲得更好的成像效果，科學家嘗 ...

涉光刻技術、衍射光學元件光刻技術等。 其中DMD無掩膜光刻技術是從傳統光學光刻技術衍生出的一種新技術，因為其曝光成像的方式與傳統投影光刻基本相似，區別在于使用數字DMD代替傳統的掩膜，其主要原理是通過計算機將所需的光刻圖案通過軟件輸入到DMD芯片中，并根據圖像中的黑白像素的分布來改變DMD芯片微鏡的轉角，并通過準直光源照射到DMD芯片上形成與所需圖形一致的光圖像投射到基片表面，并通過控制樣品臺的移動實現大面積的微結構制備。設備原理圖圖下圖所示。相對于傳統的光刻設備，DMD無掩膜光刻機無需掩膜，節約了生產成本和周期并可以根據自己的需求靈活設計掩膜。相對于激光直寫設備，DMD芯片上的每一個微 ...

AOM器件的衍射效率以及光纖和光纖耦合造成的損耗，對于大多數AOM脈沖選擇器/Pulse Picker來說，損耗將達到75%-90%。精確選擇脈沖的能力它與AOM及配套射頻驅動系統的消光比有關，大多數情況下，動態消光比作為最主要的因素，例如AOM的下降時間不夠快，下一個(或上一個)脈沖的一部分也通過選取的范圍。脈沖選擇器/Pulse Picker波長適用范圍（特別是對于可調諧飛秒激光器）輸出一階角與波長成正比。如果入射光束的線寬由于超短脈沖而變寬，則會導致輸出一階角的展寬。另一方面，AOM本身的透過率曲線及鍍膜曲線也會影響波長適用范圍。色散(特別是對于脈寬<<100fs的寬帶脈沖) ...

小又受到阿貝衍射極限的限制。網上已經有很多關于衍射極限的詳細知識了，比如下圖。我在這里就通俗講一下：就是當所觀察的目標直徑小于200nm時，傳統光學顯微鏡就無法將它和其他不想看的物質分辨開了。也許在以前觀察的物質都是直徑大于200nm，我們還不會受到衍射極限的困擾，可是在科技日新月異的現在，我們要觀察的物質越來越小。尤其是在利用熒光成像的活體細胞領域，比方說以前我們要觀察直徑大小有500nm左右的線粒體，還不會被200nm的衍射極限所影響，我們能分辨出線粒體發出的熒光成像。可是當觀察線粒體中只有30nm大小的的核糖體時，想要觀察它就必須突破衍射極限，否則就被線粒體的熒光掩蓋了。但這又怎么能難到 ...

光調Q，控制衍射損耗的聲光調Q和控制吸收損耗的可飽和吸收體調Q。電光調Q技術：電光調Q技術的原理是普克爾斯（Pockels）效應——即一級電光效應，電光晶體的雙折射效應與外加電場強度成正比，偏振光經過電光晶體后，偏振面旋轉的角度與晶體長度和兩側所加電壓的乘積成正比。電光調Q激光器的原理圖如下所示：目前普遍應用的電光晶體有KD*P（磷酸二氫鉀(KDP),磷酸二氘鉀(DKDP)）晶體和LN（鈮酸鋰LiNbO3）晶體。當線偏振光入射到電場中的晶體表面，分解成初相位相同的左旋和右旋兩束圓偏振光。在晶體中，兩束光線的傳播速度不同。即從晶體中出射時，兩束光線存在相位差。則合成的線偏振光的偏振面已經和入射光 ...

控制DMD的衍射圖像，從而取代傳統光學掩膜。簡化傳統光刻的復雜流程，減低成本。光譜分析： DMD芯片上的每個像素都可以通過編程進行控制，可以對光線進行有選擇的衰減，通過DMD控制，篩選所需要的光譜。同時因為DMD芯片，體積小，耗能小等特點，集成DMD芯片的光譜儀可以做成便攜式。除了以上這些已經比較成形的領域，DMD芯片還在航天與國防、結構光超分辨、波分復用、光學主動變焦、彩色三維全息等領域有很好的應用前景。近些年以來，隨著對DMD的研究逐漸深入，對高品質空間光調制需求的增加和大量與DMD芯片有關的科學論文的發表，DMD芯片出色能力被越來越多的領域所發掘。DMD芯片從軍工，逐漸走向民用，越來越多 ...

需要利用到無衍射光斑，先生成環形無衍射光斑，再將環形無衍射光斑照射進光折變材料，在光折變材料中留下環形包層結構。比如利用純相位空間光調制器對高斯分布的入射光進行相位調制，產生無衍射貝塞爾光束，并將生成的無衍射貝塞爾光束以一定的功率照射光折變材料，產生環形封閉的光波導包層。而且采用加熱或者均勻光照的方法均可擦除材料中的光波導痕跡，材料可重復利用，也變相降低了成本。空間光調制器的原理？本文所使用的空間光調制器是純相位空間光調制器，即空間光調制器對入射光的相位空間分布根據輸入圖像的信息進行對應的調制。目前主流純相位空間光調制器使用的是液晶調制機制。液晶器件，除了用于顯示以外，其以良好的穩定性、可進行 ...

子β（又稱為衍射極限倍數因子）是使用較為廣泛的一種激光光束質量評價指標，其定義為實際光束遠場發散角θ（上文中的遠場發散角）與理想光束遠場發散θ角之間的比值，即β=θ/θ 。實際光束的β值一般均大于1，β數值越小，光束質量越高（類似于M ）。但是運用β評定光束質量時需要忽略不計測量系統造成的衍射影響，β因子必須與測量光學系統的參數無關，此時它是衡量激光器輸出光束質量的一個合理特征參數；且因之可反映實際光束在遠場平面內的能量集中度和可聚焦性，所以β因子同樣適用于能量型應用的場合。相對而言β因子很明顯的不足在于，因接收激光遠場光斑的測量設備靶面有限，當激光光束經遠距離傳輸后光束質量退化較為嚴重時，遠 ...

VPHG) 衍射光柵技術的光譜儀相對于傳統的刻劃光柵，具有顏色效率高，受偏振影響小的特點,其透過率高達90%，比傳統的反射式光柵大30%,可以實現高通量和高信噪比，下圖是Nanobase和某品牌拉曼光譜信噪比對比情況： 再來看一下Nanobase常用探測器比較： NANOBASE不同于傳統的拉曼光譜設備采用平臺移動的方式，它選擇的獨特的激光掃描技術，保持位移平臺不動，通過振鏡調節激光聚焦的位置完成掃描成像，不但速度快，掃描面積大，而且精度也高。Nanobase有多種型號光譜儀，如您有具體需求可與我們聯系哦。 ...