表面增強(qiáng)拉曼散射這是一項(xiàng)基于SERS的污染物選擇性檢測(cè)工作,污染物以雙酚A(BPA)為代表。涉及BPA的污染物對(duì)金屬表面吸附的親和力很弱,這就限制了SERS技術(shù)在檢測(cè)BPA中的應(yīng)用。 此外實(shí)際樣品包含復(fù)雜的成分,SERS信號(hào)可能會(huì)受到干擾,導(dǎo)致定性檢測(cè)能力低。分子印跡聚合物(MIPs)是一種對(duì)目標(biāo)分子具有高親和力的人工模板制備識(shí)別材料,將SERS與分子印跡技術(shù)結(jié)合起來,以獲得選擇性和靈敏度方面的綜合優(yōu)勢(shì)。二、待測(cè)樣品制備過程首先合成模板配合物:雙酚A-三乙氧基硅烷,接著合成核殼結(jié)構(gòu):第1步合成的模板在增強(qiáng)基底Au納米顆粒表面,然后去除雙酚A,zui后將去除雙酚A的模板與目標(biāo)待測(cè)物混合即可進(jìn)行選 ...
于測(cè)量是通過散射光進(jìn)行的,因此無需從電池中提取氣體即可測(cè)量各種逸出氣體的分壓,使用專門設(shè)計(jì)的拉曼分析裝置對(duì)18650圓柱形電池進(jìn)行氣體分析。為了加速氣體逸出,停留電位從 4.2 變?yōu)?4.8 V,直至2000小時(shí)。通過這種方法使用商用超級(jí)電容器成功地對(duì)逸出氣體進(jìn)行了原位拉曼分析。研究表明,新開發(fā)的氣體分析裝置無干擾且高度可靠。圖1:用于原位拉曼測(cè)量的 LIB-拉曼電池示意圖兩個(gè)光學(xué)窗口,以及池體和 18650 池之間的軟金屬密封,將內(nèi)部大氣與環(huán)境隔離本研究所有氣體測(cè)量均使用專門設(shè)計(jì)的 LIB-拉曼電池進(jìn)行,電池示意圖如圖1,它由電池主體、電池蓋和 18650 電池組成。池體由一個(gè)氣體收集通道、 ...
自適應(yīng)光學(xué),散射或渾濁介質(zhì)中的成像,雙光子/三光子顯微成像,光遺傳學(xué),全息光鑷(HOT),脈沖整形,光學(xué)加密,量子計(jì)算,光通信,湍流模擬等領(lǐng)域。其高分辨率、高刷新率、高填充因子的特點(diǎn)適用于PSF工程應(yīng)用中。圖1. Meadowlark 2022年新推出 1024 x 1024 1K刷新率SLM二、空間光調(diào)制器在PSF工程中的技術(shù)介紹在單分子定位顯微鏡(SMLM)中,通過從相機(jī)視場(chǎng)中稀疏分布的發(fā)射點(diǎn)來估計(jì)單個(gè)分子的位置,從而克服了分辨率的衍射限制。可實(shí)現(xiàn)的分辨率受到定位精度和熒光標(biāo)簽密度的限制,在實(shí)踐中可能是幾十納米的數(shù)量級(jí)。有科研團(tuán)隊(duì)已經(jīng)將這種技術(shù)擴(kuò)展到三維定位。通過在光路中加入一個(gè)圓柱形透鏡 ...
像。使用彈性散射光可以生成未標(biāo)記樣本的圖像,但目前主要的障礙是這些圖像通常受到散斑的影響。為了解決這個(gè)不便,Pablo Loza-Alvarez, Omar Alarte, David Merino of ICFO-Institut de Ciencies Fotoniques with Diego Battista and Giannis Zacharakis of Foundation for Research and Technology-Hellas使用來自樣本的彈性散射光來生成圖像,以避免對(duì)樣品的標(biāo)記。他們使用了低時(shí)間相干的超連續(xù)譜激光光源作為一種候選光源,以減少散射光在光片顯微鏡圖 ...
射,經(jīng)毛玻璃散射。然后由線偏振片獲得與LCOS液晶指向矢平行的偏振方向。然后分束鏡將透射光分為兩路,一路光反射到參考鏡經(jīng)過補(bǔ)償玻璃板,再原路返回。另一路光透射后在LCOS芯片的液晶內(nèi)經(jīng)過雙折射產(chǎn)生相位延遲,再原路返回。兩路光最后再在CCD前疊加,產(chǎn)生白光短路干涉,由CCD記錄干涉圖樣。LCOS裝載在壓電位移臺(tái)上,以便調(diào)整光程差,進(jìn)而獲得多組干涉圖樣。根據(jù)獲得的干涉圖組,分析情況獲得三維相位輪廓。調(diào)整在LCOS上加載電壓,獲得從0到255灰度值的圖案,(a)圖為在LCOS上觀測(cè)的圖像。可得到對(duì)應(yīng)的干涉圖樣,(b)圖為L(zhǎng)COS的干涉圖。可看出單張干涉圖出現(xiàn)扭曲,說明液晶的相位調(diào)制不是線性的。可在改 ...
,它會(huì)對(duì)拉曼散射信號(hào)產(chǎn)生較大的增強(qiáng)(圖1)。因此可以假設(shè)兩個(gè)因素負(fù)責(zé)信號(hào)的增強(qiáng)。電磁效應(yīng)被認(rèn)為是更主要的,有時(shí)也被稱為“第①層效應(yīng)”,因?yàn)樗蠓治鑫锓肿优c金屬表面直接接觸。這兩種因素都可以通過位于銀、金等金屬中的表面等離子體的概念得到很好的理解。當(dāng)?shù)入x子體激元垂直于金屬表面振蕩時(shí)引起散射,反映了表面的粗糙度,這種粗糙度可以是物理粗糙度,也可以是一些納米粒子產(chǎn)生的粗糙度。由于法向拉曼散射得到的信號(hào)通常非常微弱,因此為了獲得更多可檢測(cè)或增強(qiáng)的信號(hào),人們傾向于采用SERS技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)可以提供分子與表面相互作用的信息,從而可以檢測(cè)到較低濃度的分析物。這種特殊制備的金屬表面,如金,銀和銅,將拉曼信號(hào) ...
TED)干涉散射顯微鏡 Interferometric scattering microscopy (iSCAT)寬場(chǎng)顯微鏡 Widefield microscopy五、VAHEAT客戶反饋:相關(guān)文獻(xiàn):http://www.arouy.cn/jishu-630.htmlhttp://www.arouy.cn/jishu-462.html關(guān)于德國Interherence公司:德國Interherence公司擁有量子和生物光子學(xué)領(lǐng)域的專家團(tuán)隊(duì),為高靈敏度光學(xué)顯微鏡的發(fā)展做出了很大貢獻(xiàn)。該團(tuán)隊(duì)采用了現(xiàn)代納米制造和薄膜技術(shù),推出了VAHEAT生物顯微溫度控制器,作為傳統(tǒng)顯微 ...
homson散射 紫外照明及監(jiān)測(cè) 紫外拉曼光譜 紫外固化 高溫應(yīng)用醫(yī)療方面: 醫(yī)療診斷 激光傳輸 光動(dòng)力療法 醫(yī)學(xué)治療高精度定制型光纖束-昊量光電 (auniontech.com)系統(tǒng)的工作原理:聚光裝置將入射的太陽光進(jìn)行會(huì)聚,會(huì)聚后的太陽光通過光纖束傳輸?shù)饺魏涡枰彰鞯膱?chǎng)所,再通過合理的配光設(shè)計(jì)使傳輸過來的太陽光均勻地散射出去。當(dāng)無太陽光照射或太陽光不足時(shí),利用輔助照明裝置進(jìn)行補(bǔ)充照明,以保證高質(zhì)量的照明環(huán)境。太陽光光纖照明系統(tǒng)應(yīng)用于空間照明的關(guān)鍵技術(shù)為:聚光裝置的設(shè)計(jì);聚光裝置與光纖的耦合;末端發(fā)光裝置的設(shè)計(jì);輔助照明裝置的設(shè)計(jì)。研究上述應(yīng)用的技術(shù)難點(diǎn),將對(duì)光纖照明系統(tǒng)應(yīng)用于空間照明并 ...
于其他偽影(散射、厚度不均勻性等)而減弱,NA 效應(yīng)會(huì)使干涉條紋幾乎消失,在這種情況 下,軟件校正無濟(jì)于事。需要根據(jù)應(yīng)用要求評(píng)估物鏡的使用。 如果可能的話,使用低數(shù)值孔徑物鏡總是更好。實(shí)際上,在所有應(yīng)用中,低NA(理想情況下NA < 0.5)對(duì)測(cè)量光譜的影響非常小。圖 4 校正TFCompanion 中的NA 影響。 TFCompanion 有一個(gè)選項(xiàng)可以在“高ji”選項(xiàng)卡 (主屏幕)中設(shè)置測(cè)量的NA–這將包括曲線擬合期間計(jì)算中的NA 校正(通常不需要FFT 校正)MProbe 40 MSP 系統(tǒng)使用NA<0.55 的長(zhǎng)工作距離 物鏡。這非常大限度地減少了幾乎所有膠片疊層的測(cè)量信號(hào) ...
過其彎曲的壁散射入射光。此外,它還涂有1.2 μm的Si3N4,以進(jìn)一步抑制來自背面的光反饋。通過比較兩個(gè)4mm長(zhǎng)的Fabry-Perot (FP)腔的閾值電流密度和獨(dú)立測(cè)量的凈增益,實(shí)驗(yàn)確定了具有抗反射(AR)涂層的這種面的反射率為~10?5,其中一個(gè)具有兩個(gè)劈裂面,另一個(gè)具有劈裂的前面和濕蝕刻ar涂層的后面。17°角脊波導(dǎo)(如圖1(b)所示)用于抑制來自前切面的殘余反射,據(jù)報(bào)道其反射率約為~10?2。圖2本文采用的QC有源芯設(shè)計(jì)基于超強(qiáng)耦合方案,在80 K時(shí)發(fā)射波長(zhǎng)為~5 μm。該器件采用標(biāo)準(zhǔn)脊激光加工工藝制備:波導(dǎo)采用光刻工藝,濕蝕刻至~6 μm深;采用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECV ...
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