么究竟什么是拉曼光譜，提到拉曼光譜的時(shí)候也會(huì)提及的SERS、共聚焦拉曼、高溫拉曼、FT-Rama、RRS又是什么呢？下面來簡要介紹下。拉曼光譜是一種振動(dòng)光譜，是物質(zhì)的一種固有的性質(zhì)，可以非常靈敏地判斷物質(zhì)的組成，又被稱之為指紋光譜。拉曼光譜是1928年印度科學(xué)家C.V.Raman發(fā)現(xiàn)的。光與介質(zhì)作用發(fā)生散射，散射可以分為兩種，1.彈性散射：散射光與入射光頻率一樣，為瑞利散射；2：非彈性散射，散射光頻率發(fā)生改變，為拉曼散射，頻率的變化對(duì)應(yīng)的是物質(zhì)的轉(zhuǎn)動(dòng)和振動(dòng)光譜，所以收集拉曼散射可以得到物質(zhì)的結(jié)構(gòu)，從而完成對(duì)物質(zhì)的指認(rèn)。而拉曼散射根據(jù)散射光頻率相較于入射光頻率的變化，又分為斯托克斯線，與反斯托克 ...

激發(fā)波長對(duì)拉曼光譜的影響這里不詳細(xì)闡述拉曼光譜的原理了,理論上拉曼光譜與激發(fā)光是沒有關(guān)系的.但是有些樣品在某種激發(fā)光的輻照下會(huì)產(chǎn)生較強(qiáng)的熒光,這會(huì)湮滅原本較弱的拉曼散射；又因?yàn)槔⑸鋸?qiáng)度與激發(fā)波長的四次方成反比,也就是說波長越短散射信號(hào)越強(qiáng),因此對(duì)于光譜整體質(zhì)量作一個(gè)綜合的考量離不開激發(fā)波長的選擇.02 拉曼激光器的種類紫外：244nm,257nm,325nm,364nm可見：457 nm,488 nm,514 nm, 532 nm,633 nm,660 nm近紅外：785 nm,830 nm,980 nm,1064 nm03 紫外拉曼優(yōu)缺點(diǎn)優(yōu)點(diǎn)：①紫外激發(fā)能量高,散射信號(hào)強(qiáng),靈敏度高.② ...

d）。04 拉曼光譜測(cè)試紅外發(fā)射率的改變顯然是由于離子液體插入石墨烯層中.為了進(jìn)一步表征表面多層石墨烯的插層過程,進(jìn)行了原位拉曼測(cè)試（圖四a）.圖四b展示了在不同偏壓下表面石墨烯的拉曼光譜.對(duì)于原始的多層石墨烯,存在三種拉曼模式：D（1321 cm-1）,G（1580 cm-1）和2D（2688cm-1）模式.D峰表明石墨烯中的缺陷,這可能是由基底蝕刻和轉(zhuǎn)移過程引起的.對(duì)于低于2V的插層偏壓,拉曼光譜與原始樣品相似.但是,當(dāng)施加的電壓高于3V時(shí),G峰和D峰的強(qiáng)度顯著增加,并且隨著偏壓增加至3 V,G峰從1580cm-1變?yōu)?603 cm-1.G峰強(qiáng)度的增加表明了離子插層的摻雜效果.同時(shí)G峰藍(lán)移 ...

例向大家展示拉曼光譜,熒光壽命,光電流表征異質(zhì)結(jié)的結(jié)果.拉曼光譜陜西師范大學(xué)徐華老師等人合成ReS2/WS2垂直異質(zhì)結(jié),上圖a是光學(xué)顯微鏡下材料的實(shí)際圖片.圖b黃,紅,藍(lán)三條光譜分別對(duì)應(yīng)圖a中ReS2,ReS2&WS2界面,WS2處.Eg,Ag拉曼特征峰分別代表平面內(nèi)振動(dòng)模式和平面外振動(dòng)模式.隨著層數(shù)的增加,Eg逐漸向低波數(shù)方向移動(dòng),Ag逐漸向高波數(shù)方向移動(dòng),通過兩個(gè)振動(dòng)的位移差可以判定它的層數(shù).上圖b顯示了在異質(zhì)結(jié)晶粒中兩個(gè)相鄰區(qū)域和一維界面處獲得的拉曼光譜.從ReS2處收集的拉曼光譜在150 cm-1（Eg）,308 cm-1（Eg）和213 cm-1（Ag）處出現(xiàn)特征峰,這與單層 ...

紅外光譜和拉曼光譜都可以用來分析分子結(jié)構(gòu)和化學(xué)組成，而且它們都屬于分子振動(dòng)光譜。但是，事實(shí)上，它們之間存在非常大的差別，最明顯的就是，紅外光譜是吸收光譜，拉曼光譜是散射光譜，表現(xiàn)在光譜圖上就是，紅外光譜是凹的，拉曼光譜是凸的。另外，同一種分子的拉曼光譜和紅外光譜所呈現(xiàn)的信息也往往不同，這與分子結(jié)構(gòu)與分子振動(dòng)都有緊密的關(guān)系。下面來簡單對(duì)比下紅外光譜與拉曼光譜。一、檢測(cè)原理紅外光譜：物質(zhì)由于吸收光的能量，引起分子由低能級(jí)向高能級(jí)躍遷，測(cè)量在不同波長處的輻射強(qiáng)度就得到了紅外吸收光譜。拉曼光譜：光照射物質(zhì)，發(fā)生散射，其中非彈性散射的部分，散射光頻率相對(duì)于入射光頻率發(fā)生了一定變化，這部分非彈性散射被稱為 ...

拉曼光譜學(xué)是用來研究晶格及分子的振動(dòng)模式，旋轉(zhuǎn)模式和在一系統(tǒng)里的其他低頻模式的一種分光光譜學(xué)技術(shù)。拉曼散射為非彈性散射，通常用來激發(fā)拉曼光譜的激光范圍為可見光，近紅外或者近紫外光范圍附近，激光于系統(tǒng)聲子進(jìn)行相互作用導(dǎo)致最后光子能量增加或者減少，而由這些能量的變化可得知聲子模式。下圖展示了顯微拉曼光譜原理光路以及使用的相關(guān)器件：其中用來進(jìn)行拉曼光譜實(shí)驗(yàn)的激光器我們稱之為拉曼激光器，拉曼激光器區(qū)別于普通激光器的一個(gè)最大不同就是激光器的線寬，就是激光器的單色性，一般來說，普通激光器的線寬在0.1納米到幾個(gè)納米之間，而拉曼激光器最低要求激光器線寬不能超過0.001納米，最好是使用單縱模激光器進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。 ...

測(cè)試了它們的拉曼光譜。圖中分別為原始石墨烯和摻雜不同濃度Mn3O4顆粒的石墨烯的拉曼光譜圖，展示了具有D，G和2D峰特征的原始石墨烯和摻雜石墨烯的拉曼光譜的演變。D峰（ω~1350cm-1）是石墨烯的無序振動(dòng)峰，只有當(dāng)缺陷存在時(shí)才能被激活。G峰（ω~1580cm-1）是sp2碳原子面內(nèi)振動(dòng)引起的，通常與應(yīng)力有關(guān)，因此可用來反映石墨烯層數(shù)。2D峰是雙聲子共振二階拉曼峰，用來反映多層石墨烯的堆垛方式。二硫化鉬MoS2如上圖是首爾國立大學(xué)Takhee Lee的研究工作，用拉曼光譜儀（Xper Ram200）測(cè)試了MoS2的拉曼譜圖。E12g是MoS2的面內(nèi)振動(dòng)模式，拉曼峰在380cm-1處，A1g是 ...

關(guān)于哈特曼傳感器的原理的介紹及相位恢復(fù)方法哈特曼傳感器是在相機(jī)前放置一個(gè)微透鏡陣列組成。光束經(jīng)過每個(gè)微透鏡后都會(huì)聚焦在一點(diǎn)，聚焦點(diǎn)的位置被能夠反應(yīng)出光束的方向，然后反推出光的波前信息。下面的內(nèi)容是模擬光束經(jīng)過透鏡后聚焦的過程，然后簡單的敘述了兩種相位恢復(fù)的算法。模擬步驟1. 構(gòu)建相位面，獲取焦面上的圖像，計(jì)算斜率2. 重建波前方法分為兩種，一種是區(qū)域法，一種是模型法。3. 對(duì)比重構(gòu)之后的相位和輸入的相位面，對(duì)比結(jié)果構(gòu)建相位面，計(jì)算質(zhì)心，獲取斜率1、構(gòu)建相位面數(shù)字化處理的方式多是無量綱的數(shù)據(jù)，因此默認(rèn)量綱為a，假設(shè)為1um。一個(gè)連續(xù)的光斑，光強(qiáng)和相位面是連續(xù)的，這里將它離散，變成一個(gè)二維矩陣，單 ...

光電效應(yīng)與光電檢測(cè)技術(shù)原理當(dāng)光子能量（hν）超過材料逸出功閾值時(shí)，表面電子吸收光子能量后克服原子核束縛形成自由電子發(fā)射，這一量子化物理現(xiàn)象被稱為光電效應(yīng)（Photoelectric Effect）。愛因斯坦于1905年通過光量子理論首次完整詮釋該效應(yīng)機(jī)理，由此產(chǎn)生的定向電荷遷移形成的電流稱為光電流（Photocurrent），其強(qiáng)度與入射光強(qiáng)、材料功函數(shù)及能帶結(jié)構(gòu)密切相關(guān)。Mapping是一種顯微成像技術(shù)，一般用于研究物質(zhì)的微結(jié)構(gòu)組成，早些時(shí)候應(yīng)用Mapping的是顯微光譜成像，用于研究樣品微結(jié)構(gòu)上的光譜，從而掌握樣品的結(jié)構(gòu)組成與物質(zhì)組分。將激光通過無限遠(yuǎn)物鏡聚焦到樣品表面，由于激光經(jīng)過物鏡聚 ...

D5。大多數(shù)拉曼光譜儀需60dB以上瑞利光抑制，這可以通過幾個(gè)BNFs的順序級(jí)聯(lián)得到。圖1顯示了兩個(gè)級(jí)聯(lián)BNFs在785 nm處光譜輪廓，兩個(gè)濾光片組合光密度約為7。圖2顯示了一個(gè)高端薄膜陷波濾波器的光譜輪廓。可見使用VBG濾波器技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)帶寬的顯著降低，這使得單級(jí)光譜儀進(jìn)行超低頻率拉曼測(cè)量成為可能。圖2不同BNFs的透射光譜如圖3所示。OD>3在488 nm處的濾光片，其特征損耗約為15-20%，532 nm濾光片損耗為15-20%，633 nm濾光片損耗為10-15%，而785 nm濾光片損耗小于10%。BNF光學(xué)損耗主要是由光在玻璃體中的散射引起的。光散射與波長的四次方成正比增大 ...