厚標(biāo)準(zhǔn)樣片的襯底材料為硅，薄膜材料為二氧化硅。按照公式所示的數(shù)學(xué)模型編寫Matlab算法進(jìn)行仿真得到二氧化硅薄膜的厚度，通過仿真可知:使用薄膜厚度為2nm，50nm，500nm，3個(gè)不同厚度的膜厚標(biāo)準(zhǔn)樣片即可覆蓋橢偏角的大部分范圍，具體的薄膜厚度和覆蓋橢偏角的范圍見表1。 薄膜厚度/nm 覆蓋范圍/（°） Δ覆蓋范圍/（°） 2 15-40 120-180 50 10-60 100-220 500 ...

斜率與薄膜和襯底的熱導(dǎo)率和擴(kuò)散率有關(guān)。圖2：SDTR的相位(a)和振幅掃描曲線(b)示意圖(圖中數(shù)據(jù)為Ti/Si樣品)圖2(a)和2(b)所示分別為整個(gè)掃描范圍內(nèi)的相位信號(hào)和幅值信號(hào)，理論上兩種信號(hào)都是以零點(diǎn)(泵浦光斑和探測光斑重合位置)左右對(duì)稱，雖然理論面內(nèi)熱導(dǎo)率kxx需要從對(duì)整個(gè)坐標(biāo)軸范圍的斜率Δφ進(jìn)行擬合而得到，但實(shí)際的擬合結(jié)果主要決定于xc＞2ω(ω為光斑直徑)處的斜率，同樣的，在振幅信號(hào)中(圖2(b)所示)的曲線中，ω的敏感度主要為振幅曲線的半高寬。因此通過SDTR的同次測試結(jié)果中可同時(shí)確定樣品的掃描方向的面內(nèi)熱導(dǎo)率kxx和有效光斑直徑ω。SDTR對(duì)測試樣品有一定的要求：首先要確定樣 ...

用光度式，在襯底裸露部分進(jìn)行消光調(diào)節(jié)，然后在保持補(bǔ)償器方位角、偏振器方位角不變的情況下使用光度式進(jìn)行操作，根據(jù)反射光的強(qiáng)度實(shí)現(xiàn)材料厚度的可視化。該技術(shù)對(duì)薄層沉積過程中厚度分布的在線動(dòng)態(tài)可視化具有很大的應(yīng)用前景。該橢偏成像技術(shù)使用的是單一波長入射樣品，結(jié)構(gòu)如下圖所示 。具有擴(kuò)展光束、固定偏振組件和 CCD 相機(jī)的成像橢偏儀結(jié)構(gòu)示意圖該成像橢偏系統(tǒng)被應(yīng)用于研究多種蛋白分子在固相表面的吸附機(jī)理和多種抗原-抗體之間的相互作用等，并且成功地檢測了人體內(nèi)分泌激素等。如果您對(duì)橢偏儀相關(guān)產(chǎn)品有興趣，請(qǐng)?jiān)L問上海昊量光電的官方網(wǎng)頁：http://www.arouy.cn/three-level-56 ...

勢(shì)。LED的襯底溫度較低，使其成為固化熱敏材料的理想選擇。LED固化系統(tǒng)通過其即時(shí)開啟的特性提供能源效率，無需預(yù)熱。由于壽命長，LED的擁有成本也較低。NewDEL光纖耦合LED光源在光固化/光聚合領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)：高輻射功率和穩(wěn)定的光譜輸出可靠的結(jié)果一個(gè)波長范圍來固化不同的材料防止氧抑制的280 nm模型推薦型號(hào)：N280、N365、N395、N405、N4758.光生物調(diào)制Photobiomodulation人們正在探索紅光和近紅外光(600-1000納米)通過改變細(xì)胞水平的功能來解決各種醫(yī)療問題的潛力。該技術(shù)被稱為光生物調(diào)節(jié)，目前正在研究用于傷口治療、組織修復(fù)、疼痛管理、創(chuàng)傷性腦損傷治療等。雖 ...

系統(tǒng)獲得的硅襯底上的二氧化硅納米薄膜的厚度分布。硅襯底上的二氧化硅薄膜厚度分布厚度刨面在1.10 mm×2.21 mm的面積上幾乎是平坦的，在水平和垂直方向上的空間分辨率分別為 1.58μm 和4 62μm。該系統(tǒng)與光譜橢偏之間的平均厚度差小于3nm，盡管包含大量的數(shù)據(jù)點(diǎn)，測量結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)值的偏差小于2.5nm。通過與磁光調(diào)制、時(shí)間相移和雙反射等技術(shù)的結(jié)合，光譜橢偏技術(shù)提高了測量速度和準(zhǔn)確性。通過與Muller矩陣的結(jié)合，光譜橢偏技術(shù)不再受光學(xué)分辨率極限的限制，提高了測量的準(zhǔn)確性，可以獲得更豐富的信息。2019年華中科技大學(xué)發(fā)明了基于液晶調(diào)相的垂直物鏡式Muller矩陣成像橢偏儀，該儀器所用系統(tǒng) ...

以用來從任何襯底上確定石墨烯薄膜的形狀和層數(shù)，從中提取其光學(xué)性質(zhì)從而分析不同襯底對(duì)石墨烯性質(zhì)的影響。下圖為成像橢偏儀獲得的石墨烯薄片灰度圖和光學(xué)顯微鏡獲得的石墨烯薄片的對(duì)比。成像橢偏儀獲得的石墨烯薄片灰度圖和光學(xué)顯微鏡獲得的石墨烯薄片的對(duì)比。（a）不同層數(shù)的石墨烯片的光學(xué)顯微照 片，數(shù)字代表石墨烯層數(shù)；（b）石墨烯片在二氧化硅/硅上的成像橢偏灰度圖；（c）（d）以更高的分辨率顯示圖（b）中方框 區(qū)域的橢偏Ψ和Δ圖對(duì)比上圖（a）和（b）-（d）可以看出，成像橢偏適用于區(qū)分單層和雙層石墨烯。在此之后，成像橢偏技術(shù)實(shí)現(xiàn)從單波長測量到光譜測量的突破，為測定由飛秒激光誘導(dǎo)的離子遷移刻寫的通信波導(dǎo)的折射率 ...

(0001)襯底上的12 nm Pt緩沖層上，采用電子光刻技術(shù)制備了厚度為15 nm的CoPt3點(diǎn)。它們具有較大的垂直磁晶各向異性和鐵磁行為，其特征是定義良好的平方磁滯回線，矯頑力場為±3.7 kOe。圓點(diǎn)的直徑可在0.2 ~ 1 μm范圍內(nèi)變化。下面只給出1 μm點(diǎn)的結(jié)果。圖1實(shí)驗(yàn)配置能成像納米結(jié)構(gòu)的形貌以及磁化的動(dòng)力學(xué)。圖1為泵脈沖激勵(lì)后直徑為1μm的CoPt3點(diǎn)在不同時(shí)間延遲下的微分磁化圖像。注意，在當(dāng)前的測量中，激發(fā)不是固定在點(diǎn)的中心，而是在成像過程中與探針光束一起移位。圖a、b和c的序列表明，可以監(jiān)測磁點(diǎn)磁化的空間動(dòng)態(tài)。了解更多詳情，請(qǐng)?jiān)L問上海昊量光電的官方網(wǎng)頁：https://ww ...

消除來自樣品襯底的背景散射光。在針孔之后，用一個(gè)偏振器來分析探測光束的克爾旋轉(zhuǎn)，該偏振器相對(duì)于入射光束的交叉偏振方向的角度為幾度(交叉偏振器技術(shù))然后用光電倍增管和鎖定檢測方案進(jìn)行檢測。垂直于樣品平面施加zui大振幅為±4kOe的可變靜態(tài)磁場H。樣品可以用XY壓電掃描臺(tái)在±40 um的距離上進(jìn)行掃描，精度為2 nm。CoPt3光盤是由15 nm的CoxPt1?x (x=0.25)合金薄膜通過分子束外延生長在沉積在500 um取向藍(lán)寶石(0001)襯底上的12 nm Pt緩沖層上，通過電子光刻制成的圓盤的直徑為0.2 ~ 1m，圓盤之間的距離為0.5 ~ 2um。圖2圖2(a)表示時(shí)間的變化泵浦 ...

，使用金剛石襯底將熱量從斑點(diǎn)轉(zhuǎn)移到陽極，比標(biāo)準(zhǔn)目標(biāo)結(jié)構(gòu)更有效。這使得我們的功率負(fù)載比非金剛石支持的目標(biāo)增加50%，允許1.5W/μm的功率負(fù)載數(shù)。更高的功率負(fù)載支持更快的圖像這一切意味著什么?如果我們還記得第1部分，你接觸到的光子越多，你得到圖像的速度就越快。例如，如果你需要1000萬個(gè)光子來撞擊你的探測器，你可以通過增加50%的功率來提高50%的速度。有了我們的菱形目標(biāo)，你就可以做到這一點(diǎn)，并更快地積累你的1000萬個(gè)計(jì)數(shù)，以提高你的線速度。或者，如果您在流程中有固定的時(shí)間來拍攝圖像，該怎么辦?我們的鉆石靶也可以提供幫助，通過讓您減少焦點(diǎn)光斑尺寸，同時(shí)保持功率一致。這將在您定義的處理時(shí)間內(nèi)產(chǎn) ...

度。為了減少襯底的誘導(dǎo)背景和散斑噪聲，該技術(shù)進(jìn)一步更新為包括偏振濾波和軸向掃描，但代價(jià)是降低了顯微鏡的軸向分辨率。另一種基于彈性散射的不同實(shí)現(xiàn)使用低相干光片照明，而不是軸向掃描，以減少斑點(diǎn)。在這種情況下，我們使用一堆遮光片來產(chǎn)生一組以不同角度傳播的光片，這些光片被加在一起以抵消斑點(diǎn)。該技術(shù)被應(yīng)用于增強(qiáng)小鼠大腦未染色的形態(tài)學(xué)神經(jīng)元結(jié)構(gòu)的可視化。了解更多詳情，請(qǐng)?jiān)L問上海昊量光電的官方網(wǎng)頁：http://www.arouy.cn/three-level-104.html更多詳情請(qǐng)聯(lián)系昊量光電/歡迎直接聯(lián)系昊量光電關(guān)于昊量光電：上海昊量光電設(shè)備有限公司是光電產(chǎn)品專業(yè)代理商，產(chǎn)品包括各類激 ...